然而历经磨难的华为最终还是没能逃过断供,历时10年仅用6亿经费造出国产光刻机,美科技界,真没想到

日期:2020-09-16 13:52:03 来源:互联网 编辑 : 小优 阅读人数:724

从美国把华为列入“实体清单”开始,针对华为的打压便一波接着一波。谷歌断供GMS服务,台积电等芯片代工企业只要使用了美国技术,就不能为华为生产芯片,并且美国还将华为旗下38家子公司列入“实体清单”禁止华

从美国把华为列入“实体清单”开始,针对华为的打压便一波接着一波。谷歌断供GMS服务,台积电等芯片代工企业只要使用了美国技术,就不能为华为生产芯片,并且美国还将华为旗下38家子公司列入“实体清单”禁止华为及其子公司成为芯片的收货人及使用人。然而历经磨难的华为最终还是没能逃过断供,目前禁令已经开始正式生效,然而让美科技界没想到的是:我们居然造出了国产的光刻机!

然而历经磨难的华为最终还是没能逃过断供,历时10年仅用6亿经费造出国产光刻机,美科技界,真没想到(图1)

历时10年仅用6亿经费造出国产光刻机

华为经历的芯片危机让我们明白,我们真正的短板是在芯片制造上,而芯片制造最大的难题就是光刻机。1965年就研发出了我国第一款65型接触式光刻机,但是芯片行业的投入是非常巨大的,而“早不如买,买不如租”的思想开始蔓延,导致了我国的半导体行业发展严重滞后。

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但是有一家企业却非常具有前瞻性,一直在默默的研发国产的光刻机,它就是上海微电子!它成立于2002年,通过七年的苦心研究,在2009年时,上海微电子交付了第一台封装光刻机产品。从借鉴到研发需要一个过程,所以前期上海微电子也参照了ASML,通过进口零件来进行组装。而目前上海微电子已经拥有了3200多项专利,研发能力有了质的飞跃!

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根据其官网显示,目前上海微电子已经能够造出90nm的光刻机。并且还有称,明年上海微电子可能会交付28nm的光刻机,这对于国产光刻机来说又是一个巨大的进步。

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肯定有网友会说:人家台积电、三星都已经量产5nm工艺的芯片了,并且还在研究更为先进的工艺,就算28nm的国产光刻机真的交付了,依然差距很大,有什么值得开心的?然而编者认为最难的就是从无到有,这十年来,上海微电子用仅仅6亿元的研发经费达到了现在的成就,这对它来说是非常不容易的!手机对于芯片的工艺要求确实非常严苛,但是PC端以及其他领域所使用的芯片其实并不需要这么先进的工艺,所以国产光刻机的破冰,对于我们来说影响深远。

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写在最后

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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